MD-1粒(li)度分析(xi)儀型(xing)號(hao)采(cai)用斯(si)托克(ke)斯(si)原(yuan)理(li)爾(er)定(ding)律(lv)測(ce)定(ding)分布(bu)（分散度）。與(yu)常(chang)規方(fang)法相比(bi)省去(qu)天平稱(cheng)重和顯微鏡數(shu)數等(deng)繁雜工作。讀(du)數(shu)直(zhi)觀(guan)，測(ce)定(ding)結(jie)果(guo)自動儲(chu)存，也(ye)可(ke)由(you)用戶根據(ju)需(xu)要(yao)選擇(ze)，把(ba)結(jie)果(guo)通過(guo)顯(xian)示屏(ping)或(huo)打印機(ji)輸(shu)出。儀(yi)器(qi)具(ju)有掉(diao)電(dian)保護功能，可(ke)儲存(cun)40 次粒(li)度分布(bu)數據(ju)，儲存(cun)的數(shu)據(ju)可(ke)根據(ju)用戶意(yi)圖進行(xing)清(qing)除(chu)。是(shi)粉塵(chen)實(shi)驗室使用的(de)理(li)想儀器。

MD-1粒(li)度分析(xi)儀型(xing)號(hao)

       采(cai)用斯(si)托克(ke)斯(si)原(yuan)理(li)和比爾(er)定(ding)律(lv)測(ce)定(ding)粉(fen)塵(chen)粒(li)度分布(bu)(分散度)。與(yu)常(chang)規方(fang)法相比(bi)省去(qu)天平稱(cheng)重和顯微鏡數(shu)數等(deng)繁雜工作。讀(du)數(shu)直(zhi)觀(guan)，測(ce)定(ding)結(jie)果(guo)自動儲(chu)存，也(ye)可(ke)由(you)用戶根據(ju)需(xu)要(yao)選擇(ze)，把(ba)結(jie)果(guo)通過(guo)顯(xian)示屏(ping)或(huo)打印機(ji)輸(shu)出。儀(yi)器(qi)具(ju)有掉(diao)電(dian)保護功能，可(ke)儲存(cun)40 次粒(li)度分布(bu)數據(ju)，儲存(cun)的數(shu)據(ju)可(ke)根據(ju)用戶意(yi)圖進行(xing)清(qing)除(chu)。是(shi)粉塵(chen)實(shi)驗室使用的(de)理(li)想儀器。

MD-1粒(li)度分析(xi)儀型(xing)號(hao)采(cai)用斯(si)托克(ke)斯(si)原(yuan)理(li)爾(er)定(ding)律(lv)測(ce)定(ding)分布(bu)（分散度）。與(yu)常(chang)規方(fang)法相比(bi)省去(qu)天平稱(cheng)重和顯微鏡數(shu)數等(deng)繁雜工作。讀(du)數(shu)直(zhi)觀(guan)，測(ce)定(ding)結(jie)果(guo)自動儲(chu)存，也(ye)可(ke)由(you)用戶根據(ju)需(xu)要(yao)選擇(ze)，把(ba)結(jie)果(guo)通過(guo)顯(xian)示屏(ping)或(huo)打印機(ji)輸(shu)出。儀(yi)器(qi)具(ju)有掉(diao)電(dian)保護功能，可(ke)儲存(cun)40 次粒(li)度分布(bu)數據(ju)，儲存(cun)的數(shu)據(ju)可(ke)根據(ju)用戶意(yi)圖進行(xing)清(qing)除(chu)。是(shi)粉塵(chen)實(shi)驗室使用的(de)理(li)想儀器。

MD-1技(ji)術指(zhi)標：

測(ce)定(ding)範(fan)圍(wei)：

       (粉(fen)塵(chen)粒(li)度分布(bu)) 0～150μm(測(ce)定(ding)粉(fen)塵(chen)累積質(zhi)量(liang)篩(shai)上(shang)分布(bu)，粉塵(chen)粒(li)度分級為(wei)150、100、80、60、50、40、30、20、10、8、7、6、5、4、3、2、1μm)
測(ce)定(ding)誤差(cha)：      d<40μm時，粉塵(chen)粒(li)度分布(bu)重復(fu)測(ce)定(ding)誤差(cha)≤10%，
測(ce)量(liang)誤差(cha):    (120004a微粒(li)標準物質(zhi)為(wei)試(shi)驗(yan)粉(fen)塵(chen)) d50=10～13μm
工作電(dian)源(yuan)：     220V AC
外(wai)形尺寸(cun)：    (430×285×300)mm
重    量(liang)：15kg